抗蚀剂 发明专利(274条) 
记录号 申请号 专利名称
1 03143604.8 半导体图案化光致抗蚀剂层的重作工艺
2 200410057004.X 含有染料的抗蚀剂组合物以及使用其的滤色器
3 200410061832.0 光致抗蚀剂聚合物与含有该光致抗蚀剂聚合物的光致抗蚀剂化合物
4 02821688.1 剥离抗蚀剂的方法
5 200410059458.0 光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法
6 200410059459.5 光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法
7 200410062400.1 去除TFT-LCD制造工艺中彩色抗蚀剂的剥离组合物
8 200410055899.3 抗蚀剂图案及配线图案的形成方法、半导体装置的制造法
9 200410044713.4 系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
10 200410044681.8 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
11 200410045257.5 正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
12 200410045733.3 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
13 200410049012.X 正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
14 200410047674.3 采用光致抗蚀剂形成均匀的特征的方法
15 200410076979.7 用于除去与铜相容的抗蚀剂的组合物和方法
16 200410057680.7 制造母板和形成图案的方法、母板、模板、光信息记录介质和抗蚀剂
17 02823446.4 双二酰亚胺化合物,使用它们的酸产生剂和抗蚀剂组合物以及用该组合物的图案形...
18 02823454.5 正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法
19 200410069631.5 光致抗蚀剂组合物
20 200410057944.9 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
21 200410071372.X 正型光致抗蚀剂组合物
22 200410069633.4 光致抗蚀剂聚合物及包含其的光致抗蚀剂组合物
23 200410083384.4 排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
24 02825525.9 具有高耐热性的光致抗蚀剂组合物
25 200410098151.1 抗蚀剂聚合物，抗蚀剂组合物和布线图案制作方法
26 200410045732.9 系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
27 200410044771.7 含有环氧基团和查耳酮基团的化合物及其制备方法以及含有该化合物的光致抗蚀剂
28 200310114869.0 光致抗蚀剂处理方法
29 200410080711.0 高分子化合物、光致抗蚀剂材料及图案形成方法
30 200410080712.5 高分子化合物、光致抗蚀剂材料及图案形成方法
31 02827571.3 光致抗蚀剂用显影液
32 02827572.1 光致抗蚀剂用显影液
33 200410069634.9 光致抗蚀剂组合物及形成光致抗蚀剂图案的方法
34 01819638.1 碱和表面活性剂,以及它们在用于微型平板印刷的光致抗蚀剂组合物中的用途
35 200410096239.X 半导体器件的制造方法及用于剥离抗蚀剂的清洗装置
36 200410094976.6 干膜光致抗蚀剂
37 03803198.1 用于检查对带电粒子有反应的抗蚀剂的系统和方法
38 02812460.X 抗蚀剂组合物
39 200410097396.2 具有多环结构的醚单体和聚合物，和使用其得到的光敏聚合物和抗蚀剂组合物
40 200410081724.X 水溶性材料、化学放大型抗蚀剂及使用它们的图形形成方法
41 200410092179.4 抗蚀剂图案制造工艺及其增厚材料和半导体器件制造工艺
42 200510003846.1 正型光致抗蚀剂剥离液组合物
43 03805088.9 用于短波长成像的负性光致抗蚀剂
44 200410104834.3 聚合物和包含聚合物的光致抗蚀剂组合物
45 200410100602.0 抗蚀剂残渣去除液组合物及半导体电路元件的制造方法
46 200410092193.4 抗蚀剂图形的形成方法和半导体器件的制造方法
47 02808085.8 生产光致抗蚀剂组合物用成膜树脂的方法
48 03807053.7 滤色片用分散有颜料的抗蚀剂组合物
49 85107347 高反差正性光致抗蚀剂显影的方法
50 86108059 聚丁二烯系正型抗蚀剂及合成方法
51 91104683.6 碱水型显影光成像抗蚀剂
52 91104637.2 从印刷电路板上清除抗蚀剂的方法
53 93117375.2 光抗蚀剂组合物及应用该组合物产生图形的方法
54 95107303.6 用于光敏抗蚀剂层的显影剂
55 95102906.1 用于供给光致抗蚀剂的系统
56 95119744.4 负型光致抗蚀剂及形成光致抗蚀图的方法
57 95193140.7 可干法显影的正性抗蚀剂
58 96119765.X 薄膜器件工艺形成凹状光致抗蚀剂剥离外形的方法及器件
59 96191526.9 正性光致抗蚀剂的显影方法和所用的组合物
60 97119099.2 新的光致抗蚀剂共聚物
61 97114183.5 高分辨率的正作用干膜光致抗蚀剂
62 97116326.X 含N-乙烯基内酰胺衍生物的共聚物、其制法及光致抗蚀剂
63 97126153.9 使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置
64 98100324.9 使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置
65 97190887.7 抗蚀剂的显影方法以及显影装置
66 96197087.1 酚甲醛缩合物的分馏和由其生产的光敏抗蚀剂组合物
67 96197086.3 酚甲醛缩合物的分馏和由其生产的光敏抗蚀剂组合物
68 96197304.8 金属离子含量低的4,4'－[1－[4－[1－(4－羟基苯基)－1－甲基乙...
69 02156379.9 应用多层光致抗蚀剂层结构的光刻工艺
70 02142777.1 光致抗蚀剂材料的管路气泡监测装置
71 03133069.X 可溶于光致抗蚀剂显影液的有机底部抗反射组合物及使用该组合物的光刻和蚀刻方...
72 03154301.4 正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
73 03178649.9 抗蚀剂剥离装置
74 01820981.5 离子注入之后清除光抗蚀剂的方法
75 03146640.0 用形成水溶性树脂和抗蚀剂材料的混合层制备微电子结构的方法
76 200310102365.7 一种化学增幅型正性抗蚀剂组合物
77 03132814.8 精细图案形成方法和抗蚀剂表层处理剂
78 03146494.7 用于除去抗蚀剂的洗净液及半导体器件的制造方法
79 03147057.2 水蒸汽作为处理气，用于离子植入后抗蚀剂剥离中硬壳、抗蚀剂和残渣的去除
80 200310101996.7 化学增幅型正性抗蚀剂合成物
81 200310101490.6 LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法
82 03159600.2 抗蚀剂填入方法和半导体器件的制造方法
83 02806404.6 抗蚀剂剥离用组合物
84 200310120468.6 光敏抗蚀剂显影液用消泡分散剂
85 200310115315.2 光致抗蚀剂显影剂组合物
86 03127442.0 提高化学增强光致抗蚀剂分辨率的方法
87 200310118674.3 形成抗蚀剂图案的工艺、半导体器件及其制造
88 200310100592.6 光致抗蚀剂蚀刻中前边界点技术
89 03800287.6 抗蚀剂材料和微加工方法
90 01823240.X 包含具有2-氰基丙烯酸单体的聚合物的抗蚀剂组合物
91 01823274.4 抗蚀剂剥离剂组合物
92 01823279.5 抗蚀剂剥离剂组合物
93 03165028.7 改进的光致抗蚀剂
94 02811695.X 厚膜型光致抗蚀剂及其使用方法
95 200410002210.0 LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法
96 200410002262.8 抗蚀剂组合物
97 03100735.X 用于光致抗蚀剂的剥离组合物
98 200410002076.4 光致抗蚀剂脱除剂
99 01823277.9 抗蚀剂剥离剂组合物
100 02811001.3 光敏性树脂组合物及用该组合物的光敏性干膜抗蚀剂、光敏性射线遮挡膜
101 02811618.6 厚抗蚀剂图案的形成方法
102 03110543.2 聚硅氧烷以及含有所述聚硅氧烷的光致抗蚀剂组合物的制备方法
103 03110718.4 光致抗蚀剂组合物
104 03110717.6 光致抗蚀剂组合物
105 200410030444.6 抗蚀剂图案形成方法和抗蚀剂图案形成系统
106 200410005582.9 正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
107 03800355.4 抗蚀剂剥离剂
108 03148995.8 正型光致抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案的形成方法
109 03143079.1 正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形的形成方法
110 01816265.7 含芳香酸抑制剂的光致抗蚀剂剥离剂/清洁剂组合物
111 200410031928.2 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法
112 200310116832.1 光致抗蚀剂移除组合物
113 200310124967.2 多层光致抗蚀剂系统
114 200310112654.5 一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺
115 03137844.7 形成无侧叶现象的光致抗蚀剂层的方法
116 200310124966.8 多层光致抗蚀剂系统
117 200410059567.2 光致抗蚀剂组合物及其制备方法
118 200410028333.1 用于多个微型喷嘴涂布机的光致抗蚀剂组合物
119 200410044710.0 正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
120 200410044796.7 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
121 200510004698.5 化学增幅型抗蚀剂及图案形成方法
122 03809298.0 光致抗蚀剂剥离方法
123 03816061.7 用于干膜抗蚀剂的热稳定的光固化树脂组合物
124 03815546.X 具有改进型抗蚀剂及/或蚀刻轮廓特征的介电膜用蚀刻方法
125 200510054468.X 非旋涂方式用正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形形成方法
126 200510055829.2 抗蚀剂组合物
127 03819298.5 用作光致抗蚀剂的具有稠合的4-元杂环的多环基团的氟化单体,氟化聚合物和用...
128 03818917.8 用作光致抗蚀剂的氟化聚合物和用于微石印术的方法
129 03819026.5 用作157纳米微石印术的光致抗蚀剂,氟聚合物和方法
130 03819299.3 用作光致抗蚀剂的具有带稠合4-元碳环的多环基团的氟化聚合物和用于微石印术...
131 03818746.9 具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法
132 03817362.X 可聚合组合物,聚合物,抗蚀剂及蚀刻方法
133 200510062425.6 正型抗蚀剂组合物
134 200510062432.6 正型抗蚀剂组合物
135 200510059701.3 正相抗蚀膜的剥离方法、曝光用掩模的制造方法以及抗蚀剂剥离装置
136 200510063722.2 光致抗蚀剂剥离剂组合物
137 03817569.X 氟化聚合物、光致抗蚀剂和显微平版印刷法
138 02132225.2 化学放大型正性抗蚀剂组合物
139 02108303.7 抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法
140 00817711.2 用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂和处理光致抗蚀剂层的方法
141 02152670.2 废抗蚀剂剥离液再生装置和再生方法
142 02124689.0 抗蚀剂图形增厚材料、抗蚀剂图形及其形成方法以及半导体器件及其制造方法
143 02155744.6 光致抗蚀剂残渣除去液组合物
144 02154063.2 化学增幅型正性抗蚀剂组合物
145 01802828.4 光致抗蚀剂显影液
146 02141379.7 正片型感光性抗蚀剂组合物及其用途
147 01802441.6 抗蚀剂抗反射涂层组合物
148 02151862.9 除去光致抗蚀剂的洗涤液
149 01144640.4 光致抗蚀剂组合物
150 01810393.6 一种在使用下游等离子体的绝缘蚀刻器中的改进的抗蚀剂剥离
151 02160084.8 短波长成像用光致抗蚀剂组合物
152 02142837.9 生产光敏抗蚀剂组合物的方法及用该组合物生产半导体元件的方法
153 02145838.3 光致抗蚀剂组合物及用其形成图案的方法
154 02150451.2 光致抗蚀剂组合物及用该组合物形成图案的方法
155 00819168.9 除去剩余光致抗蚀剂和残留侧壁钝化物的原位后蚀刻方法
156 01811689.2 基于近红外分光计控制光致抗蚀剂剥离过程的方法和再生光致抗蚀剂剥离剂成分的...
157 03107058.2 抗蚀剂组合物
158 03123145.4 酚醛清漆树脂溶液、正型光致抗蚀剂组合物及其调制方法
159 00819817.9 用超临界二氧化碳工艺从半导体上去除光致抗蚀剂和光致抗蚀残留物
160 03131213.6 在导电性基板上形成抗蚀剂层的装置
161 02127602.1 使用在水溶液中具有高当量电导率的导电材料的抗蚀剂剥离剂组合物
162 03108247.5 光致抗蚀剂残渣除去液组合物
163 02105820.2 复合光致抗蚀剂层结构
164 03110712.5 1,2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂、制备该光敏剂的方法和光致抗蚀剂组合...
165 99125858.4 用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物
166 99125856.8 用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物
167 99118360.6 光敏抗蚀剂清除剂组合物
168 99126687.0 用于光致抗蚀剂的交联单体，及使用其制备光致抗蚀剂聚合物的方法
169 99800497.9 化学增强的抗蚀剂组合物
170 00102769.7 具有优异的抗后曝光延迟效应的光致抗蚀剂组合物
171 99122019.6 用于化学增强抗蚀剂的树脂
172 00106878.4 新的酚类树脂和含有这种树脂的光致抗蚀剂组合物
173 99119238.9 一种可以正负性互用的化学增幅抗蚀剂及其光刻工艺方法
174 98123846.7 N链烷醇烷氧基烷酰胺化合物、抗蚀剂脱除剂、用于脱除抗蚀剂的组合物及其制备...
175 98123847.5 脱除抗蚀剂的方法和设备
176 99111965.7 烷氧基N－羟基烷基链酰胺作为抗蚀剂脱除剂的用途
177 99119540.X 涂布抗蚀剂膜的方法和抗蚀剂涂布器
178 99118357.6 光致抗蚀剂单体,其共聚物和使用该共聚物的组合物
179 99124871.6 抗蚀剂图案,形成抗蚀剂图案的工艺以及形成布线图案的工艺
180 99110664.4 半导体制造中防止由介质防反射层引起的光致抗蚀剂中毒
181 00124137.0 加热干胶片及在干胶片上烘烤光致抗蚀剂膜的方法和设备
182 00123479.X 包含双键的交联剂单体及含有此单体的光致抗蚀剂共聚物
183 00126260.2 正型光致抗蚀剂组合物
184 99802638.7 光致抗蚀剂剥离液及剥离方法
185 00126263.7 正型光致抗蚀剂组合物
186 00124850.2 含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物
187 00133195.7 抗蚀剂剥离装置和抗蚀剂剥离液管理方法以及半导体装置
188 01110985.8 金属离子含量低的4,4′－[1－[4－[1－(4－羟基苯基)－1－甲基乙...
189 01110986.6 金属离子含量低的4,4′－[1－[4－[1－(4－羟基苯基)－1－甲基乙...
190 99811009.4 使用无抗蚀剂电子束光刻制造亚微米抗蚀金属/半导体结构
191 99811306.9 微石印用光致抗蚀剂、聚合物和工艺
192 01115325.3 用于抗蚀剂流动工艺的光致抗蚀剂组合物以及使用所述组合物形成接触孔的方法
193 01117158.8 包括含有内酯部分的环烯聚合物的光致抗蚀剂组合物
194 00126840.6 正型光致抗蚀剂层及其使用方法
195 00134877.9 酚/脂环的共聚物和光致抗蚀剂
196 99126266.2 含不饱和键支链的共聚物及其光致抗蚀剂组合物
197 01118895.2 带有光产酸剂的含光自由基产生剂的光致抗蚀剂组合物
198 00118797.X 去除光致抗蚀剂后残留物质的清除方法
199 99815588.8 光致抗蚀剂涂层的制备
200 99814297.2 使用化学放大抗蚀剂的透明导电膜的形成方法
201 00131452.1 改善光致抗蚀剂图案侧边轮廓的方法
202 00809600.7 用于负化学增强型抗蚀剂的脱膜剂组合物
203 00807254.X 焊锡抗蚀剂油墨组合物
204 00811167.7 用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂料
205 00812559.7 光致抗蚀剂脱膜剂组合物
206 02104699.9 防止抗蚀剂中图象毁坏的显影剂/漂洗液的组成
207 00813991.1 化学放大抗蚀剂聚合物及使用该聚合物的抗蚀剂组合物
208 02119873.X 去除抗蚀剂材料的方法
209 02118847.5 用于光致抗蚀剂溶解液的消泡剂组合物
210 98801377.0 用于制备抗蚀剂的新方法
211 98108312.9 抗蚀剂剥离液控制装置
212 97195252.3 氨基彩色发色团的金属离子含量的降低及其用于合成光致抗蚀剂的低金属含量抗反...
213 98126743.2 使用含聚合物的光致抗蚀剂的半导体装置及其制备方法
214 98126607.X 共聚物树脂,其制备方法及用其制成的光致抗蚀剂
215 99100817.0 光致抗蚀剂材料和用由其构成抗蚀图形的半导体装置制法
216 98111154.8 一种液体光致抗蚀剂
217 97197557.4 用于高感光的高分辨性I-谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物
218 98125998.7 共聚物树脂,其制备方法及使用其制成的光致抗蚀剂
219 98800823.8 高耐热照射敏感性抗蚀剂组合物
220 97198410.7 用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂层
221 98117484.1 用于短波长光的负型光致抗蚀剂组合物及其形成图像的方法
222 200510064839.2 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
223 200410033401.3 旋涂材料层的平坦化方法及光致抗蚀剂层的制造方法
224 200510065732.X 抗蚀剂图案形成法及装置、图案基板制法和显示装置制法
225 03822168.3 作为抗蚀剂的琥珀酸半酰胺
226 03821613.2 用于双层光刻的低硅排气抗蚀剂
227 200510054399.2 氰基金刚烷基化合物和聚合物和含有它们的光致抗蚀剂
228 03823350.9 193nm抗蚀剂
229 200510113215.5 进行抗蚀剂工艺校准/优化和DOE优化的方法
230 200480006191.7 脂环族不饱和化合物、聚合物、化学增幅抗蚀剂组合物及采用所述组合物形成图案...
231 03824240.0 光致抗蚀剂基材及其精制方法、和光致抗蚀剂组合物
232 03819178.4 蚀刻工艺中用于硬化光致抗蚀剂的方法和组合物
233 200510067313.X 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
234 200410009042.8 转动掩模和抗蚀剂硅片的成像干涉光刻方法及其光刻系统
235 200510066018.2 描绘图形、抗蚀剂图形的形成方法和曝光装置控制方法
236 200510064727.7 光致抗蚀剂剥离剂
237 03801743.1 不饱和单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组合物、和形成图案的方法
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